[发明专利]底发射结构的垂直腔面发射激光器、数组及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201911167953.6 申请日: 2019-11-25
公开(公告)号: CN111313230A 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 鲍益勤;马吉德·里亚齐亚特;吴大中;威尔逊·基;鲍濬 申请(专利权)人: 欧比克半导体公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183
代理公司: 深圳市智享知识产权代理有限公司 44361 代理人: 马静
地址: 美国加州桑尼*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了一种底发射结构的垂直腔面发射激光器具有一基板,第一镜单元形成于基板上,有源区形成于第一镜单元上,第二镜单元形成于有源区上。柱体通过定向电感耦合等离子体反应离子蚀刻形成,且柱体曝露第一镜单元、有源区及第二镜单元的一部分,第一金属接触层形成于柱体的顶部,第二金属接触层形成于基板,开孔形成于第二金属接触层内,并与柱体对齐。本发明使垂直腔面发射激光器数组得以更密集的方式封装,从而增加在晶圆上形成的芯片数量并相应地降低芯片成本。
搜索关键词: 发射 结构 垂直 激光器 数组 及其 制作方法
【主权项】:
暂无信息
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