[发明专利]检查装置系统有效
申请号: | 201911172981.7 | 申请日: | 2019-11-26 |
公开(公告)号: | CN111223786B | 公开(公告)日: | 2023-10-27 |
发明(设计)人: | 渡边真二郎 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种检查装置系统。该检查装置系统具备多个检查装置、以及能够与该多个检查装置相互通信的数据处理装置,其中,数据处理装置具有:保存部,其保存用于决定同检查装置的设定有关的装置参数与在使检查装置动作时得到的指标数据之间的因果关系的模型;收集部,其从多个检查装置中的至少任一检查装置收集装置参数和指标数据;判定部,其判定由收集部收集到的指标数据是否包括在预先决定的容许范围内;以及计算部,在由判定部判定为指标数据不包括在容许范围内的情况下,基于由收集部收集到的装置参数和指标数据、以及保存部中保存的模型来计算用于调整装置参数的调整量。 | ||
搜索关键词: | 检查 装置 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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