[发明专利]一种将光刻板与硅片贴合的方法及光刻机在审

专利信息
申请号: 201911173826.7 申请日: 2019-11-26
公开(公告)号: CN110850686A 公开(公告)日: 2020-02-28
发明(设计)人: 林生财;刘振辉;王胜利 申请(专利权)人: 深圳市矽电半导体设备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518172 广东省深圳市龙岗区龙城街*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种将光刻板与硅片贴合的方法及光刻机。一种将光刻板与硅片贴合的方法,用于实现光刻板与硅片贴合,所述光刻板和/或硅片浮动,光刻板与硅片之间通有真空而吸附贴合;一种光刻机,包括,浮动连接于机架的光刻板,载物部能够相对于光刻板运动使载物部上的硅片贴合于光刻板;一种光刻机,光刻板浮动连接于机架;载物部设置有第二密封部,所述第二密封部环绕硅片设置;载物部运动使硅片贴合于光刻板时,所述第二密封部与光刻板之间形成真空吸附区域,所述硅片容纳于所述真空吸附区域;通过在光刻板于硅片之间形成真空使光刻板贴合于硅片,从而保证硅片与光刻板之间紧密贴合,保证了对硅片光刻的位置精度。
搜索关键词: 一种 刻板 硅片 贴合 方法 光刻
【主权项】:
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