[发明专利]氧化镓半导体结构、日盲光电探测器及制备方法有效

专利信息
申请号: 201911174467.7 申请日: 2019-11-26
公开(公告)号: CN111312852B 公开(公告)日: 2020-10-20
发明(设计)人: 欧欣;徐文慧;游天桂;沈正皓 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0352;H01L31/10
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所 31233 代理人: 宋缨
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种氧化镓半导体结构、日盲光电探测器及制备方法,通过将氧化镓单晶晶片与绝缘体上硅中的顶层硅进行键合,可成功转移氧化镓薄膜,键合技术成熟,且通过将绝缘体上硅中的顶层硅氧化,能够有效解决漏电问题,可制备高质量、防漏电的氧化镓半导体结构,提高基于氧化镓半导体结构制备的器件性能,重要的是将氧化镓薄膜转移到硅衬底上,使得器件不仅能与CMOS工艺兼容,而且可以实现量产,对于基于氧化镓薄膜制备的日盲光电探测器的快速发展意义重大。
搜索关键词: 氧化 半导体 结构 光电 探测器 制备 方法
【主权项】:
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