[发明专利]一种宽光谱图像传感器结构及形成方法在审

专利信息
申请号: 201911175005.7 申请日: 2019-11-26
公开(公告)号: CN111146221A 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 李梦;范春晖;奚鹏程;史海军 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司;成都微光集电科技有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;张磊
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种宽光谱图像传感器结构及形成方法,图像传感器结构包括:设于半导体衬底正面上的感光单元;设于所述半导体衬底正面,自下而上依次位于所述感光单元中的宽禁带半导体材料层、第一半导体层、窄禁带半导体材料层和第二半导体层;其中,入射光由半导体衬底背面进入感光单元,利用宽禁带半导体材料层对入射光中的短波段光进行吸收,利用窄禁带半导体材料层对入射光中的长波段光进行吸收,以同时提高短波段和长波段的量子效率。本发明通过采用复合结构的感光单元,既能提高短波段的量子效率,也能增强近红外波段的量子效率。
搜索关键词: 一种 光谱 图像传感器 结构 形成 方法
【主权项】:
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