[发明专利]光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 201911179769.3 申请日: 2019-11-27
公开(公告)号: CN111258175A 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 田边胜;浅川敬司;安森顺一;石原重德;花冈修 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: G03F1/26 分类号: G03F1/26;G03F1/80
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王利波
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供在通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而形成转印图案时能够缩短过蚀刻时间、可以形成具有良好的截面形状的转印图案的光掩模坯料。所述光掩模坯料在透明基板上具有图案形成用薄膜,其中,光掩模坯料是用于形成光掩模的原版,所述光掩模通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而在透明基板上具有转印图案,图案形成用薄膜含有过渡金属和硅,图案形成用薄膜具有柱状结构。
搜索关键词: 光掩模 坯料 制造 方法 显示装置
【主权项】:
暂无信息
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