[发明专利]一种氮化硅结合碳化硅摩擦材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 201911189217.0 申请日: 2019-11-28
公开(公告)号: CN110683853B 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 陈灵涛;吴志远;熊杰;张红波 申请(专利权)人: 湖南博云新材料股份有限公司
主分类号: C04B35/80 分类号: C04B35/80;C04B35/52;C04B35/573;C04B35/591
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 付丽
地址: 414000 湖南省长沙市*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供了一种C/SiC‑Si3N4摩擦材料的制备方法,包括以下步骤:A)以丙烯为碳源,以氮气为稀释气体,将C/C预制体依次进行CVD增密和热处理,得到C/C多孔基体;B)将C/C多孔基体采用包埋法熔渗工艺进行渗硅,得到渗硅基体;C)将所述渗硅基体埋入陶瓷粉中,在氮气气氛下进行氮化处理,得到氮化基体;D)将所述氮化基体浸入涂层浸渍液中,真空条件下进行浸渍,然后进行固化处理,得到C/SiC‑Si3N4摩擦材料;所述涂层浸渍液包括A液和B液。本发明在包埋法制熔渗的工艺基础上加入氮化处理工序,对摩擦面进行了致密化处理,孔隙度≤5%,湿态刹车性能衰减6%~13%。
搜索关键词: 一种 氮化 结合 碳化硅 摩擦 材料 制备 方法
【主权项】:
1.一种氮化硅结合碳化硅摩擦材料的制备方法,包括以下步骤:/nA)以丙烯为碳源,以氮气为稀释气体,将C/C预制体依次进行化学气相沉积增密和热处理,得到C/C多孔基体;/nB)将C/C多孔基体采用包埋法熔渗工艺进行渗硅,得到渗硅基体;/nC)将所述渗硅基体埋入陶瓷粉中,在氮气气氛下进行氮化处理,得到氮化基体;/nD)将所述氮化基体浸入涂层浸渍液中,真空条件下进行浸渍,然后进行固化处理,得到C/SiC-Si
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