[发明专利]钼铌合金靶材及其制备方法、黑化膜有效
| 申请号： | 201911190147.0 | 申请日： | 2019-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN111058003B | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 程银兵;周钧;庄猛;庄志杰 | 申请（专利权）人： | 基迈克材料科技(苏州)有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C27/04;C22C32/00;B22F1/00;B22F9/04;B22F3/04;B22F3/15;C23C14/14 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 杜帅 |
| 地址： | 215200 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种钼铌合金靶材及其制备方法、黑化膜。其中，钼铌合金靶材包括如下质量份的原料组分：钼45‑89.1份、铌5‑9.9份以及金属氧化物1‑50份；其中，所述金属氧化物选自氧化铝和氧化锌中的至少一种。上述钼铌合金靶材的原料组分配比合理，在传统的钼铌合金靶材的基础上，添加至少一种上述金属氧化物，经实验验证，经上述钼铌合金靶材最终制得的黑化膜可以减少或消除电子产品表面的反射光，增加透光量，减少杂散光吸收。 | ||
| 搜索关键词： | 合金 及其 制备 方法 黑化膜 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于基迈克材料科技(苏州)有限公司，未经基迈克材料科技(苏州)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911190147.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：机器学习方法及相关装置
- 下一篇：摄像机功耗的控制方法、设备、系统和存储介质
- 同类专利
- 专利分类
