[发明专利]一种激光离焦加工时的光斑功率密度场测量建模方法在审
| 申请号： | 201911190948.7 | 申请日： | 2019-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN110909478A | 公开（公告）日： | 2020-03-24 |
| 发明（设计）人： | 徐琅;彭赫力;刘海建;陈旭;韩兴;罗志强;陈一 | 申请（专利权）人： | 上海航天精密机械研究所 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20;G02B27/00;G01J1/42;G06F111/10 |
| 代理公司： | 上海航天局专利中心 31107 | 代理人： | 许丽 |
| 地址： | 201600*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种激光离焦加工时的光斑功率密度场测量建模方法，其包括如下步骤：(1)利用激光光斑分析测量平台对某个具体激光光斑的功率和光强密度(也称“光亮度”)分布进行测量；(2)通过对测量得到的光亮度数据进行拟合，建立所测光斑的光亮度场数学模型；(3)利用激光光亮度与功率密度之比为常数的性质，基于光斑的光强和功率实测结果，求解出常数值，并建立所测光斑的功率密度场数学模型；(4)根据激光束的传输特性和能量守恒定律，利用所测光斑的功率密度场模型变换得到与该光斑功率相同半径不同的任意光斑的功率密度场模型；(5)利用激光功率变化时的基本性质，建立任意功率任意半径光斑的功率密度场模型。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 离焦加 工时 光斑 功率密度 测量 建模 方法 | ||
【主权项】：
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