[发明专利]线圈垂直位置可动态调整的蚀刻机结构在审
| 申请号： | 201911191783.5 | 申请日： | 2019-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN112863984A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 林志隆;蔡兆哲;陈俊龙 | 申请（专利权）人： | 聚昌科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/305 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 孙磊;寿宁 |
| 地址： | 中国台湾新竹县*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种线圈垂直位置可动态调整的蚀刻机结构，其包括：第一电浆反应腔体，其具有第一反应腔室；多个第一升降模块，又每一第一升降模块，其具有：第一支撑件，其环绕固设于第一反应腔室的外围；及多个第一升降件，其上、下滑动结合于第一支撑件上；以及第一线圈模块，其固设于第一升降件。借由本发明的实施，可以动态的完成反应腔室壁体上，各不同部位沉积物的清理。 | ||
| 搜索关键词： | 线圈 垂直 位置 动态 调整 蚀刻 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
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