[发明专利]经图案化载体晶片以及其制作及使用方法在审

专利信息
申请号: 201911192706.1 申请日: 2019-11-28
公开(公告)号: CN111383980A 公开(公告)日: 2020-07-07
发明(设计)人: 林景程 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L21/68 分类号: H01L21/68;H01L21/66;H01L21/027
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 王龙
地址: 美国爱*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请案涉及经图案化载体晶片以及其制作及使用方法。提供一种设备,其包括:晶片,其具有第一平面表面及与所述第一表面相对的第二表面。所述第二表面包含多个凹部。每一凹部包含多个侧壁以及下部表面且经构造以接纳半导体装置。每一凹部的所述多个侧壁经构造以对准所述半导体装置并约束所述半导体装置以使其不能在平行于所述第二表面的方向上移动。
搜索关键词: 图案 载体 晶片 及其 制作 使用方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美光科技公司,未经美光科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911192706.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top