[发明专利]用于离子布植机的离子源在审
| 申请号： | 201911192818.7 | 申请日： | 2019-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN111243925A | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 颜启恒;丘仁中;高泰坤;林吕壎;林琮闵 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/317;H01J37/32 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 谢强;黄艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开实施例提供一种在一离子布植机的一源电弧室中使用的排斥电极。排斥电极包括一轴以及具有一排斥表面的一排斥体。排斥表面具有一表面形状，其实质上装配于定位有排斥体的源电弧室的内室空间的形状。排斥体的边缘和源电弧室的内侧壁之间的间隙被最小化到一阈值水平，维持此阈值水平可以避免导电的排斥体和源电弧室的导电的内侧壁之间的短路。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 离子 布植机 离子源 | ||
【主权项】：
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