[发明专利]一种适应低冷真空环境的小面源高温黑体源在审
| 申请号： | 201911196720.9 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN111089653A | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 李杨;董玥然;张兴 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨新光光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01J5/00 | 分类号： | G01J5/00;G01J5/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 150028 黑龙江*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本发明为了解决现有技术中在典型空间环模设备的环境参数下的高温黑体源缺少通用解决方案的缺陷，而提出一种适应低冷真空环境的小面源高温黑体源，包括：热解石墨发热核心元件、供电回路、多层辐射屏隔热系统；其中热解石墨发热核心元件和供电回路设置在多层辐射屏隔热系统的内部；供电回路用于为热解石墨发热核心元件加电，使热解石墨发热核心元件生成热辐射；多层辐射屏隔热系统用于形成黑体辐射源内部封闭热环境。本发明适用于对半实物仿真系统的目标照明。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适应 真空 环境 小面源 高温 黑体 | ||
【主权项】：
暂无信息
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