[发明专利]基于黑磷纳米条阵列和金属光栅狭缝的超吸收结构有效

专利信息
申请号: 201911198772.X 申请日: 2019-11-25
公开(公告)号: CN111090136B 公开(公告)日: 2021-04-27
发明(设计)人: 刘艳;黄炎;韩根全;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00;B81B7/04;B81C1/00
代理公司: 西安文盛专利代理有限公司 61100 代理人: 佘文英
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种基于黑磷纳米条阵列和金属光栅狭缝的超吸收结构,包括金属反射层、介质层、黑磷纳米条阵列和金属光栅狭缝结构。金属反射层采用Al材料;介质层采用SiO2材料;黑磷纳米条阵列在介质层上间隔分布,黑磷的层数为单层;由左右两个金属光栅间距组成形成金属光栅狭缝结构,金属光栅材料采用Au材料。本发明可以通过结构参数调制吸收曲线从而约束表面等离子体激元波,通过金属光栅狭缝结构产生的光透射增强效果与黑磷纳米条阵列产生的局部表面等离子体共振(LSPR)效应来增强中红外波段下黑磷的光吸收。这为基于BP的等离子体激元在中红外区域光电检测和传感的应用铺平了道路。
搜索关键词: 基于 黑磷 纳米 阵列 金属 光栅 狭缝 吸收 结构
【主权项】:
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