[发明专利]电磁反射膜在审
| 申请号： | 201911199409.X | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN112886269A | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 苏陟;高强 | 申请（专利权）人： | 广州方邦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01Q15/14 | 分类号： | H01Q15/14;H01Q15/18;H01Q15/16 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 510663 广东省广州市高*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种电磁反射膜，包括导电层和设置于导电层上的凸出结构，凸出结构包括多个凸部，多个凸部间隔设置于导电层的表面，多个凸部中至少一部分的凸部之间的间距不同。该电磁反射膜通过在导电层表面设置凸出结构，使入射的电磁波在导电层表面发生反射和漫反射，改变电磁波原来的传播方向，进而增强指定范围内的电磁波强度。 | ||
| 搜索关键词： | 电磁 反射 | ||
【主权项】：
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