[发明专利]遮挡元件位置的监控方法、系统、电子设备和存储介质有效
| 申请号： | 201911199980.1 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN112884828B | 公开（公告）日： | 2023-10-27 |
| 发明（设计）人： | 归剑;王海红 | 申请（专利权）人： | 上海先进半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/70 | 分类号： | G06T7/70;G06T7/90;G06T7/62;G06T7/00 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 薛琦;林嵩 |
| 地址： | 200233 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种遮挡元件位置的监控方法、系统、电子设备和存储介质，所述监控方法包括：在样本晶圆片上的零点标记所在区域内设置目标图形；控制对样本晶圆片进行淀积处理；在淀积处理后获取目标图形相对于遮挡元件对应的遮挡区域的偏移量；判断偏移量是否满足预设条件，若不满足，则确定遮挡元件的位置偏移过量，并根据偏移量调整遮挡元件的位置，直至使得偏移量满足预设条件。本发明能够及时发现并调整遮挡元件的偏移，提高了遮挡元件的位置确定的准确性，保证了在实际工艺流程中对任意一个晶圆片进行淀积时不会发生零点标记被淀积的情况，进而提高了工艺产品的生产效率和合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 遮挡 元件 位置 监控 方法 系统 电子设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
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