[发明专利]一种3D结构光940nm窄带滤光片及其制备方法有效
| 申请号： | 201911201173.9 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN111638572B | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 杨志民;孟庆宣 | 申请（专利权）人： | 苏州京浜光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;G02B1/00 |
| 代理公司： | 苏州圆融专利代理事务所(普通合伙) 32417 | 代理人： | 郭珊珊 |
| 地址： | 215501 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种3D结构光940nm窄带滤光片及其制备方法，包括基底，所述基底一面交替蒸镀有氧化硅层和氢化硅层，所述基底另一面交替蒸镀有氧化硅层和氢化硅层，每一面所述氧化硅层和氢化硅层的总层数均设置为20‑40层，每一面所述氧化硅层的厚度设置为1300‑2000nm，每一面所述氢化硅层的厚度设置为400‑800nm。本发明，得到滤光片可以使氢化硅的折射率达到控3.8‑4.5，二氧化硅的折射率达到1.4‑1.6，可以满足大角度小偏移的要求；采用的膜系方案，波长定位准确，陡度好；空间层采用高折射率的氢化硅材料，耦合层则用低折射率的二氧化硅材料，这样角度效应引起的偏移量比用低折射率材料要小。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 结构 940 nm 窄带 滤光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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