[发明专利]利用二维铁电物质的非易失性三元存储器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201911201339.7 申请日: 2019-11-29
公开(公告)号: CN110970556A 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 李浚熙;李浩植 申请(专利权)人: 蔚山科学技术院
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 北京恒都律师事务所 11395 代理人: 李向东
地址: 韩国蔚山广域市蔚*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及利用二维铁电物质的非易失性三元存储器件及其制造方法。本发明的一实施例的非易失性三元存储器件的制造方法可包括:步骤(a),在基板上形成下部电极;步骤(b),在上述下部电极上形成二维铁电物质;步骤(c),在上述二维铁电物质上形成半导体;以及步骤(d),在上述半导体上形成上部电极。
搜索关键词: 利用 二维 物质 非易失性 三元 存储 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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