[发明专利]一种适用于高压介质的静密封结构有效

专利信息
申请号: 201911204318.0 申请日: 2019-11-29
公开(公告)号: CN111022645B 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 万金川;许开富;李瑜;叶树波;王魁;赵瑞勇;刘军年 申请(专利权)人: 西安航天动力研究所
主分类号: F16J15/10 分类号: F16J15/10;F16J15/02
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 王卫军
地址: 710100 陕西省*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提供了一种适用于高压介质的静密封结构,该静密封结构包括对接法兰A和对接法兰B,对接法兰A具有轴向延伸的导向段,导向段为圆环状且能够插入对接法兰B的通道中;对接法兰A的导向段的外表面上开设环状凹槽,环状凹槽内套设第一O型橡胶密封圈;对接法兰B的法兰盘侧面开设径向通孔,对接法兰A的导向段的外表面上对应径向通孔末端的部位开设环状盛液凹槽,由径向通孔向静密封结构中引入中等压强介质,中等压强介质通过径向通孔布满环状盛液凹槽;对接法兰A和对接法兰B的法兰盘通过法兰连接件紧固。本发明通过设置双道静密封并引入中等压强介质,将各道密封两侧压差显著降低,可在高密封介质压强下保证可靠密封。
搜索关键词: 一种 适用于 高压 介质 密封 结构
【主权项】:
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