[发明专利]一种用于降解亚甲兰的光热性能材料和应用有效
| 申请号： | 201911210791.X | 申请日： | 2019-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN111018040B | 公开（公告）日： | 2022-02-01 |
| 发明（设计）人： | 邓启良;苗青山;张彩云;王硕 | 申请（专利权）人： | 天津科技大学 |
| 主分类号： | C02F1/30 | 分类号： | C02F1/30;C02F1/48;C02F101/38;C02F101/36 |
| 代理公司： | 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 | 代理人： | 韩晓梅 |
| 地址： | 300457 天津市滨*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于降解亚甲兰的光热性能材料，制备步骤如下：⑴首先将含二茂铁的单体和4，4’‑二氨基对三联苯溶解于二氧六环和1,3,5‑三甲基苯溶液中，得混合液，混合均匀后超声；⑵混合液超声结束后加入乙酸，加入后乙酸的体积百分数为10％～20％，再进行超声，超声结束后，使用三冷冻解冻循环法将混合液真空密封；⑶在160℃～180℃下，反应36～72小时，得到固体材料，将得到的固体材料分别用N，N‑二甲基甲酰胺和甲醇洗涤，放于真空干燥箱中干燥，即得到用于降解亚甲兰的光热性能材料。本光热性能材料光热性能好、合成方法简单，具有对亚甲兰较强的吸附性能及良好的光热降解性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 降解 亚甲兰 光热 性能 材料 应用 | ||
【主权项】：
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