[发明专利]一种具有双埋氧层的晶体管结构及其制备方法有效
| 申请号： | 201911214247.2 | 申请日： | 2019-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN110890418B | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 吕凯;董业民 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | H01L29/06 | 分类号： | H01L29/06;H01L29/78;H01L21/336 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 邓琪 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种具有双埋氧层的晶体管结构及其制备方法，自上而下依次包括：顶层硅层，有源区，浅沟槽隔离区，有源区包括：位于顶层硅层上方的栅极、栅介质层，位于顶层硅层横向两端的源极和漏极；第一埋氧层；第二硅层；第二埋氧层；衬底硅层；还包括：依次贯穿浅沟槽隔离区、第一埋氧层的通孔，该通孔通过粒子注入或者掺杂，在第二硅层与通孔的界面处形成欧姆接触区；依次贯穿浅沟槽隔离区、第一埋氧层以及第二硅层形成的深沟槽隔离区；以及在衬底硅层与第二埋氧层的界面处形成的缺陷层。根据本发明提供的晶体管结构能够实现较低的衬底损耗和谐波噪声，使得器件在恶劣情况下实现较高的射频特性，与数字电路、模拟电路实现集成。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 双埋氧层 晶体管 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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