[发明专利]线圈水平位置可动态调整的蚀刻机结构在审
申请号: | 201911215347.7 | 申请日: | 2019-12-02 |
公开(公告)号: | CN112992633A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 林志隆;蔡兆哲;陈俊龙 | 申请(专利权)人: | 聚昌科技股份有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张琳 |
地址: | 中国台湾新竹县*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种线圈水平位置可动态调整的蚀刻机结构,其包括:第一电浆反应腔体;水平滑动模块,其具有:至少一个第一高度支撑件;第一水平支撑件;第一滑动件;及第二滑动件;线圈支架;以及线圈模块;其中第一滑动件及第二滑动件,使线圈模块在第一电浆反应腔体上方,进行X轴向或Y轴向的移动。借由本发明的实施,可以动态的完成反应腔室壁体上,各不同部位沉积物的清理。 | ||
搜索关键词: | 线圈 水平 位置 动态 调整 蚀刻 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
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