[发明专利]一种用于叠层晶圆的光刻胶剥离液在审
| 申请号： | 201911217512.2 | 申请日： | 2019-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN110850691A | 公开（公告）日： | 2020-02-28 |
| 发明（设计）人： | 王润杰;卢洪庆;严増源 | 申请（专利权）人： | 苏州博洋化学股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于化学制剂技术领域，涉及一种用于叠层晶圆的光刻胶剥离液，配方包括10～20wt％二甲基亚砜，10～20wt％一乙醇胺，5～11wt％四甲基氢氧化铵，0.1～1wt％硫脲类缓蚀剂和0.1～2wt％聚氧乙烯醚类非离子型表面活性剂，5～15wt％N‑甲基吡咯烷酮和余量的去离子水。本用于叠层晶圆的光刻胶剥离液具有较快的剥离速度，对金属的腐蚀率低，而且使用寿命长。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 叠层晶圆 光刻 剥离 | ||
【主权项】：
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