[发明专利]半导体存储器装置在审
申请号: | 201911219053.1 | 申请日: | 2019-12-03 |
公开(公告)号: | CN112242396A | 公开(公告)日: | 2021-01-19 |
发明(设计)人: | 金在泽;郑蕙英 | 申请(专利权)人: | 爱思开海力士有限公司 |
主分类号: | H01L27/11517 | 分类号: | H01L27/11517;H01L27/11551;H01L27/11526;G11C11/34 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 刘久亮;黄纶伟 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 半导体存储器装置。本技术涉及一种半导体存储器装置。该半导体存储器装置包括:多个沟道插塞,其被设置在半导体基板的单元区中;第一虚设区和第二虚设区,该第一虚设区被设置在所述单元区的一个端部处,并且该第二虚设区被设置在所述单元区的另一端部处;第一虚设插塞和第二虚设插塞,所述第一虚设插塞被设置在所述第一虚设区中,并且所述第二虚设插塞被设置在所述第二虚设区中。所述第一虚设插塞的数量与所述第二虚设插塞的数量不同。 | ||
搜索关键词: | 半导体 存储器 装置 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的