[发明专利]基板处理装置及利用此的基板处理方法在审
申请号: | 201911220979.2 | 申请日: | 2019-12-03 |
公开(公告)号: | CN112017935A | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 崔大俊;李寅宰;金泰学 | 申请(专利权)人: | 圆益IPS股份有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人: | 郑青松 |
地址: | 韩国京畿道平*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及基板处理装置及利用此的基板处理方法,更详细地说,涉及利用等离子体在基板表面执行基板处理的基板处理装置及利用此的基板处理方法。本发明还公开了一种基板处理装置,包括:工艺腔室(100)、气体喷射部(200)及基板支撑部(300),所述工艺腔室(100)形成密封的处理空间(S),所述气体喷射部(200)设置在所述工艺腔室(100)上侧并喷射用于基板处理的工艺气体及用于清扫所述工艺腔室(100)内部的腔室清扫气体(CCG),所述基板支撑部(300)设置在所述工艺腔室(100)并且安装有一个以上的基板(10)。 | ||
搜索关键词: | 处理 装置 利用 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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