[发明专利]用于测量通过半导体制造装置的管道的流体流量的设备在审
| 申请号： | 201911221046.5 | 申请日： | 2019-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN111256766A | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 卡德·梅基亚斯 | 申请（专利权）人： | 苏斯微技术光刻有限公司 |
| 主分类号： | G01F1/36 | 分类号： | G01F1/36;G05B11/42;G05D7/06 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 王瑞朋;胡彬 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于测量通过半导体制造装置(300)、特别是涂覆器或接合器的管道(101)的流体流量的设备(100)，包括：密封结构(103)，其布置在管道(101)中；流动结构(105)，其具有布置在密封结构(103)上游的流体入口(107)以及布置在密封结构(103)下游的流体出口(109)；在密封结构(103)的上游布置在管道(101)中的第一室(123)和在密封结构(103)的下游布置在管道(101)中的第二室(125)；以及测量装置(111)，其中测量装置(111)适于测量第一室(123)中的第一流体压力和第二室(125)中的第二流体压力，其中测量装置(111)构造成基于第一流体压力和第二流体压力确定流体流量。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 测量 通过 半导体 制造 装置 管道 流体 流量 设备 | ||
【主权项】：
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