[发明专利]气体分布器及其加工方法有效

专利信息
申请号: 201911222462.7 申请日: 2019-12-03
公开(公告)号: CN112908819B 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 刘浩东;程兵 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01J37/305 分类号: H01J37/305;H01J37/32
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 孙宝海;袁礼君
地址: 230000 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 本公开提供一种蚀刻制程气体分布器及其加工方法。加工方法包括:对蚀刻机台中放置第一晶圆,所述蚀刻机台的等离子发生器的下方设置有气体分布器,所述气体分布器具有多个筛孔;控制所述蚀刻机台运行,使所述等离子发生器对所述气体分布器喷射等离子体氧,以在所述气体分布器的上下表面和筛孔内表面形成氧化层;在所述蚀刻机台中放置表面涂覆有光刻胶的第二晶圆;控制所述蚀刻机台运行,使所述等离子发生器喷射等离子体蚀刻气体蚀刻所述第二晶圆,以在所述气体分布器的氧化层上形成碳化层。本公开实施例可以提高第一次投入使用的气体分布器的蚀刻效果和蚀刻效率。
搜索关键词: 气体 分布 及其 加工 方法
【主权项】:
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