[发明专利]显微光场体成像的重建方法及其正过程和反投影获取方法有效
| 申请号： | 201911227287.0 | 申请日： | 2019-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN110989154B | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 毛珩;张光义;陈良怡 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | G02B21/36 | 分类号： | G02B21/36 |
| 代理公司： | 北京汇智胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11346 | 代理人： | 石辉;赵立军 |
| 地址： | 100871*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种显微光场体成像的重建方法及其正过程和反投影获取方法，该方法包括：步骤1，将3D体图像分解成图层图像，每一个图层图像由多个2D子图像组成,每一个2D子图像除坐标(i，j)外像素值为零；步骤2，在每一个图层图像上提取坐标(i，j)处的像素，以重新排列成单通道图像，将所有单通道图像堆叠为多通道图像；步骤3，将光场显微镜的5D点扩散函数重新排列为4D卷积核；步骤4，将步骤2获得的多通道图像作为卷积神经网络的网络输入，将步骤3获得的4D卷积核作为卷积神经网络的权重，采用4D卷积核对多通道图像进行卷积，输出多通道图像；步骤5，将步骤4输出的多通道图像重新排列为光场图像。本发明能够大幅提高卷积计算速度，从而提升图像的重建速度。 | ||
| 搜索关键词： | 显微 光场体 成像 重建 方法 及其 过程 投影 获取 | ||
【主权项】：
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