[发明专利]光栅刻写方法、光栅刻写装置、光纤及光纤激光器有效
| 申请号： | 201911230766.8 | 申请日： | 2019-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN110794512B | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 宋华青;冯曦;沈本剑;黄珊;吴文杰;陶汝茂;刘玙;唐选;李敏 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02;H01S3/067 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 杨奇松 |
| 地址： | 621000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本申请提供一种光栅刻写方法、光栅刻写装置、光纤及光纤激光器，涉及光纤制造技术领域。所述方法包括：基于激光器模型中指定模式的光束的光功率与光纤光栅的纤芯中的指定介质掺杂直径的对应关系，确定使模型中指定模式的光束光功率为零的指定介质掺杂直径范围；从该直径范围中选取第一直径，将以纤芯的横截面的圆心为圆点、直径为第一直径的圆作为光敏提升区域，其他纤芯区域作为补偿区域；基于不同掺杂浓度分别对光敏提升区域和补偿区域进行指定介质掺杂，对指定介质掺杂后的光纤进行光栅刻写。通过设定光敏提升区域对纤芯进行非均匀介质掺杂，可以抑制高阶模在激光器中的起振，从而抑制高阶模振荡引起的光束质量退化和效率降低。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 刻写 方法 装置 光纤 激光器 | ||
【主权项】：
1.一种光栅刻写方法，其特征在于，所述方法包括：/n基于激光器模型中指定模式的光束的光功率与光纤光栅的纤芯中的指定介质掺杂直径的对应关系，确定使所述激光器模型中所述指定模式的光束在所述光纤光栅中光功率为零的指定介质掺杂直径范围；/n从所述指定介质掺杂直径范围中选取第一直径，将以所述纤芯的横截面的圆心为圆点、直径为所述第一直径的圆作为光敏提升区域，所述纤芯除所述光敏提升区域外的区域作为补偿区域；/n基于不同掺杂浓度分别对所述光敏提升区域和所述补偿区域进行指定介质掺杂；/n对指定介质掺杂后的所述光纤进行光栅刻写。/n
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