[发明专利]肖特基二极管及其制备方法有效
| 申请号： | 201911231350.8 | 申请日： | 2019-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN111129163B | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 王元刚;吕元杰;冯志红;刘红宇;宋旭波;周幸叶;谭鑫;梁士雄;韩婷婷 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
| 主分类号： | H01L29/872 | 分类号： | H01L29/872;H01L21/329;H01L29/06 |
| 代理公司： | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人： | 付晓娣 |
| 地址： | 050051 *** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体领域，特别涉及一种肖特基二极管及其制备方法。该方法包括：在衬底上外延n型氧化镓层；在所述n型氧化镓层上制备第一掩膜层；其中，所述第一掩膜层的窗口为待制备的热氧化处理区所对应的区域，其中，所述热氧化处理区包括至少一个第一热氧化区和两个第二热氧化区；对器件正面进行第一高温退火处理，形成热氧化处理区；去除所述第一掩膜层；制备正面的阳极金属层和背面的阴极金属层；其中，所述第一热氧化区位于阳极金属下方，每个第二热氧化区部分位于阳极金属下方。上述方法可以通过热氧化形成终端结构，降低阳极金属下方及边缘区电场，从而降低阳极反向漏电，改善击穿和导通特性。 | ||
| 搜索关键词： | 肖特基 二极管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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