[发明专利]彩膜基板的制备方法及彩膜基板有效
| 申请号： | 201911233140.2 | 申请日： | 2019-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN111061084B | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 陈杰 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;H01L27/32;H01L27/15 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 李新干 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请提供一种彩膜基板的制备方法及彩膜基板，该制备方法包括：提供一基板，基板包括第一子像素区、第二子像素区和第三子像素区；在第一子像素区上形成第一光阻层；在基板上形成量子点层，量子点层包括至少两种量子点，至少两种量子点的出光颜色分别与第一光阻层的出光颜色不同；在量子点层上依次形成第二光阻层和第三光阻层，第二光阻层对应第二子像素区设置，第三光阻层对应第三子像素区设置；以第二光阻层和第三光阻层为遮挡层，对量子点层进行猝灭处理，使量子点层未被遮掩的量子点无效。本申请以第二光阻层和第三光阻层为遮挡层，对量子点层进行猝灭的设置，替换了采用光罩形成图案化的量子点层的工序，从而节省了光罩，进而降低了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 制备 方法 | ||
【主权项】：
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