[发明专利]一种用于聚变反应堆的具有阻氚功能的第一壁及制备方法在审
申请号: | 201911234873.8 | 申请日: | 2019-12-05 |
公开(公告)号: | CN112927822A | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | 才来中;宋久鹏;曾晓晓;颜彬游;黄向玫 | 申请(专利权)人: | 核工业西南物理研究院;厦门钨业股份有限公司 |
主分类号: | G21B1/13 | 分类号: | G21B1/13;C23C16/14;C23C16/34 |
代理公司: | 核工业专利中心 11007 | 代理人: | 高安娜 |
地址: | 610041 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明属于聚变反应堆技术,具体涉及一种用于聚变反应堆的具有阻氚功能的第一壁及制备方法。第一壁包括面向等离子体材料、中间层和聚变反应堆结构材料,等离子体材料为化学气相沉积的钨涂层,聚变反应堆结构材料为低活化钢,中间层为氮化钛或类似的阻氚涂层。制备时,首先在基材上制备阻氚涂层,然后在阻氚涂层上制备钨涂层。用厚钨涂层取代钨块,满足第一壁工况要求和使用寿命要求且提高了第一壁结构的重量和经济性。显著降低等离子体运行过程中的感应电流及相应的电磁载荷,既能够满足聚变反应堆中第一壁的苛刻工况要求,又减小了第一壁部件中氚滞留量,从而提高了聚变反应堆氚循环效率,降低了氚增殖和氚供给的需求。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 聚变 反应堆 具有 功能 第一 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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