[发明专利]芍药与贡菊套种的种植方法在审
申请号: | 201911237586.2 | 申请日: | 2019-12-06 |
公开(公告)号: | CN110710436A | 公开(公告)日: | 2020-01-21 |
发明(设计)人: | 张建波 | 申请(专利权)人: | 竹溪县风调雨顺农业开发有限公司 |
主分类号: | A01G22/60 | 分类号: | A01G22/60;A01B79/02;A01C21/00;A01G24/28 |
代理公司: | 42110 十堰博迪专利事务所 | 代理人: | 高良军 |
地址: | 442300 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了芍药与贡菊套种的种植方法,包括以下步骤:S1,选择倾角为35‑60°的阳坡。本发明通过在阳坡上间隔开设缓坡与陡坡,并在陡坡与缓坡上间距明确地开设浅沟与深沟,有助于充分利用土地空间与土壤资源实现贡菊与芍药的套种;通过在缓坡与陡坡上分别覆盖泥炭土层与腐叶土层;通过向缓坡与陡坡中灌溉水源,并对其种植需要添加不同种类的有机肥与复合肥,从而保证贡菊与芍药生长所需的微量元素,且有助于提升土壤肥力;通过对贡菊与芍药幼苗进行高质的挑选,且通过选择适宜的扦插与定植方式,有助于提升二者初期的存活率;通过对贡菊与芍药进行定期的除虫除害处理,有助于大幅降低病菌害虫对贡菊与芍药生长所造成的负面影响。 | ||
搜索关键词: | 芍药 贡菊 缓坡 套种 病菌害虫 负面影响 灌溉水源 间隔开设 泥炭土层 土地空间 土壤肥力 土壤资源 存活率 微量元素 生长 复合肥 有机肥 土层 幼苗 除虫 除害 定植 腐叶 扦插 浅沟 深沟 种植 覆盖 保证 | ||
【主权项】:
1.芍药与贡菊套种的种植方法,其特征在于,包括以下步骤:/nS1,选择倾角为35-60°的阳坡,将其开垦为陡坡(1)与缓坡(2)相间分布的阶梯坡面;/nS2,在陡坡(1)上均匀覆盖10-15cm厚度的腐叶土层,并在陡坡(1)开挖四道宽15cm深25cm的浅沟,在缓坡(2)上均匀覆盖15-20cm厚度的泥炭土层,并在缓坡(2)开设五道宽30cm深50cm的深沟;/nS3,3-5月时节,每隔10-15天向浅沟与深沟中均匀泼洒2份灌溉水源,同时均匀撒入适量草木灰;/nS4,在浅沟中均匀撒入硫酸钾2份、畜杂肥1份与氮、磷、钾复合肥料2份,且在深沟中均匀撒入有机肥1份与人畜粪、尿素各2份;/nS5,五月时节,在缓坡2的浅沟中按照40cm*50cm的株行距定植茎高至少为30cm的健康的贡菊扦插幼苗,保证贡菊根茎覆土5cm;/nS6,秋冬时节在陡坡(1)的深沟中按照50cm*60cm的株行距定植育苗期为三个月且茎值高至少为15cm的健壮的芍药芽头,并保证芍药芽头根茎覆土10cm;/nS7,仲秋时节,在种植有贡菊幼苗的缓坡(2)上均匀安装粘虫色板,初冬时节,在缓坡(2)上平铺银灰色地膜;/nS8,初冬时节,每隔8-12天向种植于陡坡(1)上的芍药幼苗均匀喷洒150-200倍液高脂膜,数量为2次。/n
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