[发明专利]一种新型阵列式指示光栅结构及其生产工艺在审

专利信息
申请号: 201911237831.X 申请日: 2019-12-06
公开(公告)号: CN110794496A 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 广东光栅数显技术有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 44473 广东腾锐律师事务所 代理人: 莫锡斌
地址: 523000 广东省东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种新型阵列式指示光栅结构及其生产工艺,包括基板和安装在基板中的圆形光学玻璃,所述圆形光学玻璃中部设有多个指示光栅刻线,指示光栅刻线阵列式横向排列,相邻两个指示光栅刻线之间的栅距为38μm,指示光栅刻线为矩形且栅宽为19μm,指示光栅刻线上方设有零位基准电压光栅窗口而下方设有零位光栅窗口,指示光栅刻线阵列式横向排列,制造简单方便便于大批量生产,而栅距为38μm、栅宽为19μm的指示光栅与栅距为40μm、栅宽为40μm的主光栅相配合能够形成相位标准,提高位移信号准确度。
搜索关键词: 指示光栅 刻线 阵列式 栅距 栅宽 圆形光学玻璃 横向排列 基板 准确度 光栅 零位光栅 零位基准 位移信号 相位标准 主光栅 生产工艺 配合 制造 生产
【主权项】:
1.一种新型阵列式指示光栅结构,包括基板和安装在基板中的圆形光学玻璃,其特征在于:所述圆形光学玻璃中部设有多个指示光栅刻线,指示光栅刻线阵列式横向排列,相邻两个指示光栅刻线之间的栅距为38μm,指示光栅刻线为矩形且栅宽为19μm,指示光栅与栅距为40μm、栅宽为20μm的主光栅相配合。/n
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