[发明专利]成像层、成像装置、电子设备、波带片结构及感光像元有效

专利信息
申请号: 201911243858.X 申请日: 2019-12-06
公开(公告)号: CN111988499B 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 王曙光;蔡闹闹 申请(专利权)人: 印象认知(北京)科技有限公司
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225
代理公司: 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 代理人: 逯长明;许伟群
地址: 100193 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开一种成像层、成像装置、电子设备、波带片结构及感光像元,包括成像层和位于所述成像层下侧的图像传感器,所述成像层上设有若干个成像孔,每个所述成像孔内设有波带片结构,所述波带片结构包括遮光带和透光带,所述波带片结构使经目标物反射的光线汇聚于所述图像传感器上成像。在成像层上设置波带片结构,波带片结构是根据光干涉的原理计算设计得到,使得经过透光带的单色光相干增强汇聚于图像传感器上,进而使得汇聚在图像传感器上的光均为相干增强光线,极大的放大了光强。同时,由于增加了透光面积,由光的波动性产生的干涉/衍射的次峰的相对高度和其与主峰之间的距离也会降低。从而进一步提高了光学分辨率。
搜索关键词: 成像 装置 电子设备 波带片 结构 感光
【主权项】:
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