[发明专利]一种X射线成像曝光剂量调整方法和系统在审
| 申请号： | 201911244656.7 | 申请日： | 2019-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN110974269A | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 赵明;李训青;李磊 | 申请（专利权）人： | 深圳康桥软件技术有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 上海智力专利商标事务所(普通合伙) 31105 | 代理人： | 周涛 |
| 地址： | 518071 广东省深圳市南山区桃源街*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种X射线成像曝光剂量调整方法，其包括：接收第一电压值，第一电流值条件下生成的第一影像；计算第一影像图像特征值的计算值与目标值的差值；若差值小于第一差值阈值：输出第一电压值，第一电流值作为第二影像的生成条件，若差值大于第一差值阈值，搜索数据库并判断是否存在被拍摄对象在不同厚度下曝光电压、曝光电流与图像特征值的关系表数据或拟合曲线数据：至少基于关系表数据或拟合曲线数据或至少基于差值与第二差值阈值的大小关系计算得到第二电压值和/或第二电流值；输出第二电压值和/或第二电流值作为第二影像的生成条件；更新第二影像为第一影像。本发明还提供一种X射线成像系统和一种计算机可读存储介质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射线 成像 曝光 剂量 调整 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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