[发明专利]一种蚀刻方法有效
| 申请号： | 201911245106.7 | 申请日： | 2019-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN111225509B | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | 张振文;詹俊;崔嵩;许海仙;史常东 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十三研究所 |
| 主分类号： | H05K3/06 | 分类号： | H05K3/06 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 张梦媚 |
| 地址： | 230088 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蚀刻方法，包括以下步骤：清洗待蚀刻基板的表面后，在基板的上下表面均热压感光膜；设计蚀刻图形，其中，半蚀刻部分设计为透光线条和不透光线条间隔排列的栅格状结构，根据所述蚀刻图形光绘菲林膜后，将所述菲林膜贴合在已经热压感光膜的待蚀刻基板的表面进行曝光；对曝光后的基板进行蚀刻；对蚀刻后的基板表面进行微蚀。本发明中的蚀刻方法采用一次湿法蚀刻同时实现铜片的半蚀刻和全蚀刻，减化了工序。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蚀刻 方法 | ||
【主权项】：
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