[发明专利]一种可稳定硅源浓度的自动控制系统及其控制方法有效

专利信息
申请号: 201911248924.2 申请日: 2019-12-09
公开(公告)号: CN111101111B 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 李慎重;杨德仁;马向阳;王震;田达晰;蒋玉龙;邓伟;张银光;梁兴勃 申请(专利权)人: 金瑞泓微电子(衢州)有限公司
主分类号: C23C16/24 分类号: C23C16/24;C23C16/448;C30B25/16;C30B29/06
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所(普通合伙) 31233 代理人: 王亮
地址: 324000 浙江省衢*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种可稳定硅源浓度的自动控制系统及其控制方法,包括氢气输入阀组和TCS气源钢瓶,TCS气源钢瓶与氢气输入阀组、TCS输入管和TCS输出管均相连,PLC控制器与TCS输入管上的常闭控制阀以及TCS气源钢瓶内的液位传感器相连。外延生长过程结束后,进行自动充料,启动PLC控制器,液位传感器检测液面,如果处于低液位,开启常闭控制阀进行充料,反复充料至液位达到固定液位,液位传感器探测到固定液位,在充料过程中完成第一片衬底硅片的取下、基座净化和第二片衬底硅片的安装。本发明采用新的控制系统及方法,充分延长充料时间,且增加充料频率、减少充料量以获得相对固定的液面,保证均匀的小气泡饱和浓度压力相对稳定。
搜索关键词: 一种 稳定 浓度 自动控制系统 及其 控制 方法
【主权项】:
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