[发明专利]等离子体喷射装置有效

专利信息
申请号: 201911255033.X 申请日: 2019-12-09
公开(公告)号: CN110996489B 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 刘轩东;李晓昂;张乔根 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: H05H1/52 分类号: H05H1/52
代理公司: 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 代理人: 覃婧婵
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 公开了等离子体喷射装置,等离子体喷射装置中,环形地电极设有带有喷孔的空腔,所述喷孔位于所述环形地电极上表面,随着靠近所述喷孔方向,所述空腔尺寸逐渐变小,所述空腔在远离喷孔方向设有第一内螺纹,触发腔包括中心通孔和凸起部,所述中心通孔设有第二内螺纹,所述凸起部侧表面设有第一外螺纹,所述第一外螺纹螺纹连接所述第一内螺纹以装配所述触发腔和环形地电极,其中,所述凸起部装配于所述空腔中,触发电极包括顶端的锥台部和侧表面的第二外螺纹,所述第二外螺纹螺纹连接所述第二内螺纹以装配所述触发电极和所述触发腔,其中,所述锥台部低于凸起部上表面预定距离且高于所述环形地电极的底表面。
搜索关键词: 等离子体 喷射 装置
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