[发明专利]光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法

摘要

一种光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法，光学邻近修正方法包括：提供图形单元，包括沿第一方向延伸且沿第二方向平行排列的多个栅极图形，第一方向和第二方向相垂直，图形单元还包括与栅极图形相交的有源区图形，有源区图形露出栅极图形在第一方向的线端；对有源区图形沿第一方向进行延展处理形成延展后有源区图形，延展后有源区图形露出栅极图形在第一方向的线端，栅极图形中与延展后有源区图形交叠边作为第一类型边，未与延展后有源区图形交叠的且沿第一方向延伸的边作为第二类型边；将第一类型边分割为多个第一类型片段，将第二类型边分割为多个第二类型片段；对第一类型片段和第二类型片段进行光学邻近修正。本发明提高光学邻近修正的精度。