[发明专利]一种光电化学反应中间体的阵列芯片质谱联用分析方法在审
| 申请号： | 201911263766.8 | 申请日： | 2019-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN110988100A | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 乔亮;周世伟 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | G01N27/62 | 分类号： | G01N27/62 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 张磊 |
| 地址： | 200433 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光电化学反应中间体的阵列芯片质谱联用分析方法。该方法利用二氧化钛、石墨烯等具有半导体性质或光催化性能的无机材料修饰玻璃、聚酰亚胺等绝缘塑料形成光催化剂修饰的微阵列芯片。之后将用于光电化学反应的底物滴加在该芯片上，利用光照引起光电化学反应。反应若干时间后，利用静电喷雾离子化质谱技术对该样品点进行检测，实现光电化学反应中间体分析。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光电 化学反应 中间体 阵列 芯片 联用 分析 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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