[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示面板在审

专利信息
申请号: 201911266283.3 申请日: 2019-12-11
公开(公告)号: CN111063697A 公开(公告)日: 2020-04-24
发明(设计)人: 彭浩 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/32;H01L21/84
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 远明
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。一方面,本发明通过在显示区设置有机层。由此可以释放阵列基板在多次弯折时产生的应力。另一方面,本发明在不增加新的掩膜板数量的前提下,通过半色调掩膜工艺对凹槽处的有机材料进行部分去除,对显示区的其他区域进行曝光完全去除,对弯折区的有机光阻层的有机材料进行保留,以致所述有机层远离所述基板的表面与所述层间绝缘层远离所述基板的表面平齐,最终达到上层源漏极层设置时无断差,避免其增加过孔深度,导致走线过孔金属沉积受阻形貌不够完整,使得过孔金属连接易出现断线,导致Panel在信号传输受到影响,画面显示异常。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法 显示 面板
【主权项】:
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