[发明专利]一种低剖面宽带双极化介质填充微带天线有效

专利信息
申请号: 201911267090.X 申请日: 2019-12-11
公开(公告)号: CN111048893B 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 王华;刘滔;徐伟彪;潘军;程亮 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十四研究所
主分类号: H01Q1/36 分类号: H01Q1/36;H01Q1/38;H01Q13/08;H01Q21/00;G06F17/17
代理公司: 北京律谱知识产权代理事务所(普通合伙) 11457 代理人: 黄云铎
地址: 210039 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本申请公开了一种低剖面宽带双极化介质填充微带天线,微带天线由下至上依次为金属底板、馈电单元、介质框和寄生单元组成,寄生单元,包括:寄生元介质基板和寄生元贴片;寄生元贴片蚀刻在寄生元介质基板上方,寄生元贴片上方设置有匹配槽,匹配槽用于改变寄生元贴片上的电流分布;馈电单元上设置有馈电贴片,馈电贴片位于寄生元贴片的正下方,且馈电贴片的形状与寄生元贴片的形状相同。通过本申请中的技术方案,提供一种低剖面宽带双极化介质填充微带天线,它可以实现较大的相对带宽,良好的宽角扫描能力,同时,采用了优化的填充介质,实现了微带天线的低剖面需求,并且结构简单,成本低,装配效率高。
搜索关键词: 一种 剖面 宽带 极化 介质 填充 微带 天线
【主权项】:
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