[发明专利]射线源组件的调节定位装置和方法以及辐射扫描成像设备有效
| 申请号： | 201911272103.2 | 申请日： | 2019-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN113049614B | 公开（公告）日： | 2022-11-08 |
| 发明（设计）人： | 周勇;滕延伟;张丽;黄清萍;方飞;丁辉 | 申请（专利权）人： | 同方威视技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/046 | 分类号： | G01N23/046;G01V5/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 孙纪泉 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供调节定位装置和方法，以及辐射扫描成像设备，调节定位装置用于调整辐射扫描成像设备的射线源组件的方位。调节定位装置包括：底座(100)，其包括彼此连接的第一部件和第二部件，并被构造成用于支撑射线源组件(10)，以使射线源组件竖直地定位在第二部件上；第一调节机构(200)，其安装至底座的第一部件和所述设备框架，并被配置成通过驱动整个底座相对于设备框架运动而带动射线源组件在第一方向上进行平移运动，以调整射线源组件的位置；和第二调节机构(300)，其安装至底座的第二部件和设备框架，并被配置成通过驱动第二部件相对于第一部件运动而带动射线源组件在一角度范围内转动，以调整射线源组件的出束方向。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 组件 调节 定位 装置 方法 以及 辐射 扫描 成像 设备 | ||
【主权项】：
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