[发明专利]决定方法、曝光方法、曝光装置以及物品制造方法有效
申请号: | 201911278438.5 | 申请日: | 2019-12-13 |
公开(公告)号: | CN111338186B | 公开(公告)日: | 2023-05-12 |
发明(设计)人: | 本间英晃;张劬;木岛渉;根谷尚稔;滝口笃史 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 程晨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 决定方法、曝光方法、曝光装置以及物品制造方法,决定用于接合曝光的关于基板的第1拍摄区及第2拍摄区的对位的校正量,接合曝光对第1拍摄区曝光形成第1像,对与第1拍摄区的一部分重复的第2拍摄区曝光形成第2像,得到叠接第1像和第2像的像,求出用于上下层的重叠的重叠标志间的位置偏移量即第1位置偏移量,求出用于第1拍摄区和第2拍摄区的对位的接合位置测量标志间的位置偏移量即第2位置偏移量,将第1位置偏移量加上预定比例的第2位置偏移量的位置偏移量决定为第1拍摄区和第2拍摄区重复的接合区域中的第1像的校正量,将从第1位置偏移量减相对预定比例的剩余比例的第2位置偏移量的位置偏移量决定为接合区域中的第2像的校正量。 | ||
搜索关键词: | 决定 方法 曝光 装置 以及 物品 制造 | ||
【主权项】:
暂无信息
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