[发明专利]一种用于全光调制的石墨烯等离激元器件及制备方法有效
| 申请号： | 201911279644.8 | 申请日： | 2019-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN111025690B | 公开（公告）日： | 2022-12-23 |
| 发明（设计）人： | 戴庆;郭相东;杨晓霞;刘瑞娜;胡德波;胡海;吴晨晨;罗成 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | G02F1/015 | 分类号： | G02F1/015;G02F1/03;G02F1/00;G02F2/00 |
| 代理公司： | 北京恒律知识产权代理有限公司 11416 | 代理人： | 庞立岩;顾珊 |
| 地址： | 100190 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于全光调制的石墨烯等离激元器件，激元器件由下至上依次包括TMD薄膜层和石墨烯薄膜层，石墨烯薄膜层覆盖于TMD薄膜层上形成石墨烯/TMD异质结；其中，石墨烯薄膜层内存在固定的费米能，具有费米能的石墨烯薄膜层与TMD薄膜层间形成具有石墨烯/TMD异质结的周期性纳米结构。本发明的有益效果是：可实现通过可见光进行对石墨烯等离激元红外信号的调制，是一种新颖的全光调制极化激元的器件，包括应用于光波导器件、光电探测器和光学记忆存储器件等。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 调制 石墨 元器件 制备 方法 | ||
【主权项】：
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