[发明专利]发光装置在审
| 申请号： | 201911289409.9 | 申请日： | 2015-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN111509110A | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 李允燮;金多慧;李祥弘;朴炳奎;金岱昱;朴宰贤 | 申请（专利权）人： | 首尔半导体株式会社 |
| 主分类号： | H01L33/50 | 分类号： | H01L33/50;H01L33/38;H01L33/48;H01L25/075;H01L27/15;B60Q1/00;B60Q1/26;F21K9/235;F21S2/00;F21S10/02;F21S43/00;F21S43/14;F21S43/30;F21V19/00 |
| 代理公司： | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人： | 李英艳;李志新 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种发光装置，包括：基板，其包括包围第一电极、第二电极、第三电极和第四电极的基底；第一发光单元，设置在基板上，并且包括第一发光二极管和第一波长转换器，设置在第一发光二极管上；第二发光单元，设置在基板上，与第一发光单元相隔开，并且包括第二发光二极管和第二波长转换器，设置在第二发光二极管上；以及侧壁，设置成包围第一发光单元的侧面和第二发光单元的侧面，且在第一发光单元和第二发光单元之间，其中第一发光二极管与第二发光二极管之间的第一间隔距离不同于第一波长转换器与第二波长转换器之间的第二间隔距离，侧壁包括反光材料，侧壁的侧面与基板的侧面齐平，以及侧壁的上表面与第一发光单元和第二发光单元的各个上表面齐平。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 | ||
【主权项】：
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