[发明专利]一种高带宽CMOS APD器件在审

专利信息
申请号: 201911301972.3 申请日: 2019-12-17
公开(公告)号: CN111129203A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 王巍;曾虹谙;毛鼎昌;周怡;王方;王冠宇;冯世娟 申请(专利权)人: 重庆邮电大学
主分类号: H01L31/112 分类号: H01L31/112;H01L31/113;H01L27/02;H01L29/06
代理公司: 重庆市恒信知识产权代理有限公司 50102 代理人: 刘小红;陈栋梁
地址: 400065 重*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明请求保护一种高带宽CMOS APD器件,常规的CMOS APD结构未考虑除耗尽层以外的带宽改善方法,其仅考虑缩小耗尽层横纵宽度来减少少数载流子渡越时间。为进一步提高CMOS APD的带宽,故通过调节电极距离光照区N+层的边界的长度L和电极面积来提高,其还包括在雪崩倍增的情况下,对于P+/N阱型CMOS APD,通过调节在N+上的阴极电极距边界距离L和电极尺寸分别减少空穴横向载流子渡越距离进而提高载流子渡越时间;对于P+/N阱型CMOS APD,通过调节在P+上的阳极电极距边界距离L和电极尺寸分别减少空穴横向电子载流子渡越距离进而提高载流子渡越时间提高带宽。该改进技术从电极距离以及电极面积尺寸两方面进行改进,降低载流子,提高其带宽。
搜索关键词: 一种 带宽 cmos apd 器件
【主权项】:
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