[发明专利]直写光刻系统和直写光刻方法有效
| 申请号： | 201911303595.7 | 申请日： | 2019-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN112987501B | 公开（公告）日： | 2023-01-24 |
| 发明（设计）人： | 浦东林;朱鹏飞;朱鸣;邵仁锦;张瑾;王冠楠;陈林森 | 申请（专利权）人： | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人： | 蔡光仟 |
| 地址： | 215123 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种直写光刻系统和直写光刻方法，其中直写光刻系统包括直写光源、运动机构、中央控制器、光斑图形输入装置以及投影光学装置；运动机构用于带动投影光学装置沿预设路径扫描，并用于发出参考点的位置数据；中央控制器用于根据位置数据读取光斑图形文件序列中对应的光斑图像数据；光斑图形输入装置用于根据光斑图像数据将直写光源提供的起始光束调制生成图形光；投影光学装置用于根据图形光向光刻件的表面投影出变形光斑，并在运动机构的带动下沿预设路径扫描，在扫描过程中光斑图像数据随位置数据而变化，形成预设的可控变形光斑。本发明的直写光刻系统和直写光刻方法实现了复杂表面三维形貌结构的无掩模灰度光刻，并提高了光刻精度和光刻效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 系统 方法 | ||
【主权项】：
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