[发明专利]一种大尺寸纳米周期光栅的制备方法有效
| 申请号： | 201911310965.X | 申请日： | 2019-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN111007586B | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 单翀;赵晓晖;高妍琦;崔勇;饶大幸;李小莉;赵元安;胡国行 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海智力专利商标事务所(普通合伙) 31105 | 代理人： | 周涛 |
| 地址： | 201899 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种大尺寸纳米周期光栅的制备方法，具体包括以下步骤：建立光路系统；调整激光能量密度，在加工样品表面制备出激光光斑的光栅夹缝结构，并获取光栅夹缝结构内相邻两个激光诱导表面周期性微结构之间的间距d |
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| 搜索关键词： | 一种 尺寸 纳米 周期 光栅 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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